Šta utiče na stabilnost suspenzije praškastog praha nano silikata ?
Nano silikatni prah ima svoj širok spektar primena zbog svoje specifične funkcije u svjetlu, toploti, struji, magnetima i drugim aspektima. U mnogim postupcima obrade, proizvodni proces zahtijeva da prah bude ravnomerno i stabilno raspršen u tečnom mediju. Međutim, zahvaljujući velikoj površini površine ultrafine prašine, površina može učiniti da čestice privlače jedni druge i imaju tendenciju na nestabilnost, te tendencije da proizvode aglomeraciju čestica i utiču na njen uticaj primjene. Dakle, tehnologija disperzije je ultra-fine praškaste tehnologije u ključnoj tehnologiji.
Što je vrednost viskoznosti manja, bolje je suspenzija. Koristimo viskozimetar rotora da odredimo kako različita pH vrednost i uz dodavanje različitih organskih suspendujućih sredstava i doziranja disperzanta utiču na vrijednost viskoznosti silika. Kroz vrednost viskoznosti zaključiti uslove pod kojima se najbolje osuši silicijum
Zbog mnogih vrsta malterisanih materijala, tako vrsta kiselosti disperzijskog medija i površinske modifikacije, zahtevi aktivnog agenta nisu isti. Trenutno naučno istraživanje, proizvodnja i najefikasnije neugodne mjere suspenzije su: (1) Kontrola media PH vrijednost (2) Dodati odgovarajuću količinu organskog sredstva za suspendovanje
Silicijum u kiselom ili alkalnom mediju može proizvoditi lepak. U rastvoru lepka, promjena koncentracije vodoničnih jona će učiniti da se sloj difuzije promijeni, što rezultira povećanim ili smanjenim potencijalom, viskoznost gustine će se promijeniti, suspenzija će se također promijeniti. Korišćenje organskih koloida i površinsko aktivnih sredstava kao sredstva za suspendovanje neugodnih materija takođe se često koristi. Pošto je ova guma spoj makromolekula, kada se dodaju ove supstance, koloid silika će se držati molekularnog lanca površinski aktivnog materijala, a težina lanca postaje velika i precipitira. Kada se dodaju po potrebi dodati materijal će formirati granularnu strukturu i čestice silika gela kako bi se formirao zaštitni film na vrhu, čestice silicijuma ne mogu lako srušiti sudar, čime se povećava stabilnost materijala